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3nm單片機(jī)芯片工藝“戰(zhàn)鼓”敲響

更新時(shí)間: 2019-01-07
閱讀量:1357

3nm單片機(jī)芯片工藝的“戰(zhàn)鼓”敲響了,深圳單片機(jī)開發(fā)方案公司英銳恩分享芯資訊。早前,三星宣布提速3nm單片機(jī)芯片工藝,且臺(tái)積電相關(guān)人員在月初表示3nm單片機(jī)芯片工藝相關(guān)技術(shù)已經(jīng)到位,只欠環(huán)評(píng)的東風(fēng)了。可見,3nm單片機(jī)芯片工藝的競爭正式打響。20日,臺(tái)灣臺(tái)積電3nm單片機(jī)芯片工藝環(huán)評(píng)正式通過,200億美金投資規(guī)模進(jìn)入了一個(gè)新階段。

          

3nm單片機(jī)芯片工藝對(duì)晶圓廠來說,要攻破技術(shù)研發(fā)之外,水電的消耗也是一個(gè)大問題,3nm單片機(jī)芯片工藝水電消耗是不容忽視的問題。特別是在大量使用EUV工藝之后,我們之前在介紹EUV光刻機(jī)時(shí)就提到過這個(gè)問題,由于EUV極其耗電,因?yàn)?3.5nm的紫外光容易被吸收,導(dǎo)致轉(zhuǎn)換效率非常低,據(jù)說只有0.02%,目前ASML的EUV光刻機(jī)輸出功率是250W,工作一天就要耗電3萬度,可見晶圓代工廠耗電量極大。

除了耗電之外,晶圓廠在制造芯片的過程中還需要大量水源,在已經(jīng)做到80%以上的循環(huán)用水的情況下,大型晶圓代工廠日用水量達(dá)5萬噸,用水總量依然驚人,所以建設(shè)半導(dǎo)體晶圓廠對(duì)環(huán)境方面的壓力還是很大的,工藝越先進(jìn),問題就越明顯。

晶元代工廠巨頭們爭相追逐先進(jìn)的工藝制程,但是對(duì)于國內(nèi)本土的晶圓代工廠來說,先進(jìn)工藝支持需要耗費(fèi)更多心力。單片機(jī)產(chǎn)業(yè)晶圓代工廠的前進(jìn)讓芯世界有更多可能。

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