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國內(nèi)單片機(jī)芯片產(chǎn)業(yè)誕生超分辨光刻機(jī)

更新時間: 2019-01-07
閱讀量:1405

  深圳單片機(jī)開發(fā)方案公司英銳恩為你帶來芯資訊—中國單片機(jī)芯片產(chǎn)業(yè)設(shè)備繞過了相關(guān)知識產(chǎn)權(quán)壁壘,國內(nèi)首臺超分辨力最高紫外超分辨光刻裝備誕生了。中科院光電所研發(fā)出這一臺突破傳統(tǒng)的光刻機(jī),對單片機(jī)芯片產(chǎn)業(yè)來說是一次嘗試性的邁進(jìn)。

            

  此次通過驗收的表面等離子體超分辨光刻裝備,打破了傳統(tǒng)路線格局,形成了一條全新的納米光學(xué)光刻技術(shù)路線,具有完全自主知識產(chǎn)權(quán),為超材料/超表面、第三代光學(xué)器件、廣義芯片等變革性領(lǐng)域的跨越式發(fā)展提供了制造工具。光刻分辨力達(dá)到22納米,結(jié)合多重曝光技術(shù)后,可用于制造10納米級別的芯片。

  光刻機(jī)在365納米光源波長下,單次曝光最高線寬分辨力達(dá)到22納米。項目在原理上突破分辨力衍射極限,建立了一條高分辨、大面積的納米光刻裝備研發(fā)新路線,繞過了國外相關(guān)知識產(chǎn)權(quán)壁壘。

  光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備,采用類似照片沖印的技術(shù),把一張巨大的電路設(shè)計圖縮印到小小的芯片上,光刻精度越高,芯片體積可以越小,性能也可以越高。但由于光波的衍射效應(yīng),光刻精度終將面臨極限。

            

  單片機(jī)芯片產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)過程中是需要不斷提高光刻精度的,這是全球的技術(shù)升級問題。深圳單片機(jī)開發(fā)方案公司英銳恩為中國取得這一突破萬分激動,同時也激勵著英銳恩不斷突破前進(jìn),做有價值的芯方案解決商。

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